【百家大讲堂】第263期:传感器生产的薄膜工艺和设备制造
讲座题目:传感器生产的薄膜工艺和设备制造 Thin Film Process and Equipment for MEMS Manufacturing
报 告 人:唐云俊
时 间:2019年10月30日(周三)9:00-11:00
地 点:中关村校区5号教学楼502-1
主办单位:研究生院、材料学院
报名方式:登录足球365比分_365体育投注-直播*官网理工大学微信企业号---第二课堂---课程报名中选择“【百家大讲堂】第262期:传感器生产的薄膜工艺和设备制造”
【主讲人简介】
美国AVP科技公司总技术官,中科院物理所固体物理博士,为薄膜材料、半导体工艺和设备专家。曾为中科院物理所付研究员,UCSD研究科学家。也曾就职于西部数据公司,任高级研发工程师,负责写磁头薄膜沉积、刻蚀,以及器件的工艺合成。研发新材料、新工艺,并制定工艺制度,发现并解决器件工艺制备过程中各种问题。精通微纳器件制造各种工艺流程、设备特性、研发和制造技术。在国际期刊发表50多篇学术论文,并有十多个中、美专利。曾为美国《Physical Review B》,《J. Appl. Phys.》及英国Institute of Physics 期刊杂志审稿人。
唐博士具有长期的企业技术、企业战略规划实施和企业运营的丰富经验。长期以来,负责各种~8英寸工业生产镀膜机(PVD)、离子刻蚀机(IBE)、反应刻蚀机(RIE)、离子镀膜机(IBD),以及in-line光伏电池制备镀膜设备的技术研发、生产、销售;同时负责各种薄膜材料工艺研发,包括,低损耗光学薄膜,光伏薄膜、超硬薄膜,极耐磨薄膜,耐高温、高反射合金薄膜,防静电薄膜等等,并研究其机械、光、电、磁等物理性能,及工业生产的安全性、可靠性、持续性、高产能、低消耗等生产要求,使之应用于工业生产。负责企业日常运营、管理。坚持为客户服务的理念,与客户紧密合作,了解客户生产状况,及时帮助客户分析、解决生产中的各种问题;了解客户新产品、新技术开发前景,及时制定研发、生产、销售战略,达到企业持续增长。
【讲座信息】
介绍MEMS生产过程中薄膜沉积和刻蚀的基本工艺,及相关PVD、IBE等设备设计生产的基本要求。围绕薄膜沉积、刻蚀的基本要求,如工艺特点、薄膜粘着性、均匀度、结构、性能、颗粒、温度、产能等,介绍半导体设备设计的一些思路和案例。